電子工廠凈化工程的特點和對受控環境的要求
基于微電子和光電子加工工藝的精密化，微細化和規模化，就決定了它對生產環境的的要求就越來越高，它對環境的要求可用凈、精、純、嚴四個字來形容: 　　　
凈：電子工廠，尤其是微電子前工序和光電子前工序的潔凈室對環境潔凈度的要求越來越凈。例如，12吋園片超大規模集成電路前工序光刻間的潔凈度要求高達1級（0.1μm）也就是每立方英尺空氣中≥0.1 μm的粒子數不能超過1顆。相當于ISO 1級。特別重要的是它對環境空氣提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。 　　　
精：電子工廠生產工藝對環境空氣溫、濕度的控制精度要求越來越精。還以上述微電子的光刻間為例：其溫度精度為±0.1℃，相對濕度的精度為±3%。 　　　
純：大規模集成電路前工序對生產用的高純水、高純氣體以及高純溶劑的純度要求越來越純。例如：對高純水而言，不僅對其電阻率有要求，而且對高純水中所含粒子、**、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴格的要求，隨著生產工藝的發展，對其純度的要求也越來越高。可謂純之又純。 　　　
嚴：電子工業生產不僅對環境的潔凈度，溫、濕度有嚴格的要求，同時對環境的聲（噪聲）、光（照度）、電（靜電）、磁（電磁場屏蔽）、振（微振）等都有嚴格的要求。尤其微電子生產，對環境的分子級污染提出了新的嚴格的要求。分子污染是指環境空氣中要嚴格控制例如鈉（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等對半導體工藝有害的元素。因此在處理空氣時還要用淋水（淋自來水、淋純凈水）來吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學過濾器來吸附新風中的有害分子成份。以上的講解希望可以幫到您。

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